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    • 专利摘要:
    本發明提供一種成膜性優異之光學膜製造用組合物及由該組合物所形成之光學膜。本發明係提供一種包含以下之(A)、(B)及(C)之組合物，以及由該組合物所形成之光學膜：(A)以式(A)表示之化合物：□[式中，Y1表示芳香族雜環式基等；D1及D2表示-C(=O)-O-等；G1及G2表示脂環式烴基等；L1及L2中之至少一者為具有聚合性基之有機基]；(B)具有巰基之化合物；及(C)光聚合起始劑。
    公开号:TW201323416A
    申请号:TW101135182
    申请日:2012-09-25
    公开日:2013-06-16
    发明作者:Tadahiro Kobayashi；Mia Bravo Piao
    申请人:Sumitomo Chemical Co；
    IPC主号:G02B5-00
    专利说明:
    組合物及光學膜
    本發明係關於一種組合物及光學膜。
    平板顯示裝置(FPD)中使用有偏光板及相位差板等包含光學膜之構件。作為此種光學膜，眾所周知有藉由將包含聚合性液晶化合物、光聚合起始劑及溶劑之組合物塗敷於基材上製造而成者。例如，於專利文獻1中，揭示有由包含以式(ix-1)表示之聚合性液晶化合物、光聚合起始劑及溶劑之組合物所形成之光學膜。
    [先前技術文獻] [專利文獻]
    [專利文獻1]日本專利特開2010-31223號公報
    上述專利文獻1所揭示之組合物存在當塗敷於基材上時，根據其塗敷條件之不同，有時塗敷膜中聚合性液晶化合物部分地結晶化之情況。因此，該組合物在成膜性方面仍有改善之餘地。
    本發明係包括以下之發明。
    [1]一種組合物，其包含以下之(A)、(B)及(C)：(A)以式(A)表示之化合物： [於式(A)中，X1表示氧原子、硫原子或-NR1-。R1表示氫原子或碳數1~4之烷基。
    Y1表示亦可具有取代基之碳數6~12之一價芳香族烴基、或亦可具有取代基之碳數3~12之一價芳香族雜環式基。
    Q3及Q4分別獨立地表示氫原子、亦可具有取代基之碳數1~20之一價脂肪族烴基、碳數3~20之脂環式烴基、亦可具有取代基之碳數6~20之一價芳香族烴基、鹵素原子、氰基、硝基、-NR2R3或-SR2，或者Q3及Q4亦可相互鍵結而與該等分別鍵結之碳原子一起形成芳香環或芳香族雜環。R2及R3分別獨立地表示氫原子或碳數1~6之烷基。
    D1及D2分別獨立地表示單鍵、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR4R5-、-CR4R5-CR6R7-、-O-CR4R5-、-CR4R5-O-CR6R7-、-CO-O-CR4R5-、-O-CO-CR4R5-、-CR4R5-O-CO-CR6R7-、-CR4R5-CO-O-CR6R7-或-NR4-CR5R6-或-CO-NR4-。
    R4、R5、R6及R7分別獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基。
    G1及G2分別獨立地表示碳數5~8之二價脂環式烴基，構成該脂環式烴基之亞甲基亦可置換為氧原子、硫原子或-NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可置換為三級氮原子。
    L1及L2分別獨立地表示一價有機基，L1及L2中之至少一者為具有聚合性基之有機基]；(B)具有巰基之化合物；及(C)光聚合起始劑。
    [2]如上述[1]之組合物，其中上述(B)為具有2個以上之巰基之化合物。
    [3]如上述[1]或[2]之組合物，其中上述(A)係上述式(A)之L1為以式(A1)表示之基，且L2為以式(A2)表示之基的化合物：P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1) P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)[於式(A1)及式(A2)中，B1、B2、E1及E2分別獨立地表示-CR4'R5'-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR1'-、-O-CH2-、-S-CH2-或單鍵。
    A1及A2分別獨立地表示碳數5~8之二價脂環式烴基或碳數6~18之二價芳香族烴基，構成該脂環式烴基之亞甲基亦可置換為氧原子、硫原子或-NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可置換為三級氮原子。
    k及l分別獨立地表示0~3之整數。於k為2以上之整數之情形時，複數個B1相互可相同亦可不同，複數個A1相互可相同亦可不同。於l為2以上之整數之情形時，複數個B2相互可相同亦可不同，複數個A2相互可相同亦可不同。
    F1及F2表示碳數1~12之二價脂肪族烴基。
    P1表示聚合性基。
    P2表示氫原子或聚合性基。
    R1'表示氫原子或碳數1~4之烷基。
    R4'及R5'分別獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基]。
    [4]一種光學膜，其係使如上述[1]至[3]中任一項之組合物中所含的以式(A)表示之化合物進行聚合而形成者。
    [5]如上述[4]之光學膜，其具有相位差性。
    [6]一種偏光板，其包含如上述[4]或[5]之光學膜。
    [7]一種平板顯示裝置，其包括如上述[4]或[5]之光學膜。
    根據本發明，可提供一種成膜性優異之光學膜製造用組合物及由該組合物所形成之光學膜。1.組合物(以下，視情況將本發明之組合物稱作「本組合物」)
    本組合物包含以式(A)表示之化合物(以下，視情況稱作「化合物(A)」)、(B)具有硫醇基之化合物及(C)光聚合起始劑。本發明係提供一種本組合物、以及使用本組合物所形成之光學膜等，以下，視需要一面參照圖式，一面對本發明進行詳細說明。再者，圖式中之尺寸等係為容易察看而任意設定。 1-1.化合物(A)
    本組合物包含化合物(A)。
    [於式(A)中，X1表示氧原子、硫原子或-NR1-。R1表示氫原子或碳數1~4之烷基。
    Y1表示亦可具有取代基之碳數6~12之一價芳香族烴基、或亦可具有取代基之碳數3~12之一價芳香族雜環式基。
    Q3及Q4分別獨立地表示氫原子、亦可具有取代基之碳數1~20之一價脂肪族烴基、碳數3~20之脂環式烴基、亦可具有取代基之碳數6~20之一價芳香族烴基、鹵素原子、氰基、硝基、-NR2R3或-SR2，或者Q3及Q4亦可相互鍵結而與該等分別鍵結之碳原子一起形成芳香環或芳香族雜環。R2及R3分別獨立地表示氫原子或碳數1~6之烷基。
    D1及D2分別獨立地表示單鍵、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR4R5-、-CR4R5-CR6R7-、-O-CR4R5-、-CR4R5-O-CR6R7-、-CO-O-CR4R5-、-O-CO-CR4R5-、-CR4R5-O-CO-CR6R7-、-CR4R5-CO-O-CR6R7-或-NR4-CR5R6-或-CO-NR4-。
    R4、R5、R6及R7分別獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基。
    G1及G2分別獨立地表示碳數5~8之二價脂環式烴基，構成該脂環式烴基之亞甲基亦可置換為氧原子、硫原子或-NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可置換為三級氮原子。
    L1及L2分別獨立地表示一價有機基，L1及L2中之至少一者為具有聚合性基之有機基]。
    作為以R1所表示之碳數1~4之烷基，可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基及第二丁基等。該等之中，較佳為碳數1~3之烷基，更佳為甲基及乙基，尤佳為甲基。
    作為以Y1所表示之芳香族烴基，可列舉苯基等單環系芳香族烴基；萘基、蒽基、菲基及聯苯基等多環系芳香族烴基(包括縮合多環系芳香族烴基)。該等之中，較佳為苯基及萘基，更佳為苯基。
    作為以Y1所表示之芳香族雜環式基，可列舉呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基及噻唑基等單環系芳香族雜環基，苯并噻唑基、苯并呋喃基及苯并噻吩基等多環系芳香族雜環基(包括縮合多環系芳香族雜環基)等含有至少一個氮原子、氧原子及硫原子等雜原子的芳香族雜環式基。該等之中，較佳為呋喃基、噻吩基、噻唑基、苯并噻唑基、苯并呋喃基及苯并噻吩基。
    以Y1所表示之芳香族烴基及芳香族雜環式基亦可具有取代基(以下，視情況稱作「取代基Z1」)。作為取代基Z1，可列舉鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、亞硝基、羧基、碳數1~6之烷基亞磺醯基、碳數1~6之烷基磺醯基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷基硫基(alkylsulfanyl)、碳數1~6之N-烷基胺基、碳數2~12之N,N-二烷基胺基、碳數1~6之N-烷基胺磺醯基及碳數2~12之N,N-二烷基胺磺醯基等。
    於取代基Z1之中，作為上述鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。該等之中，較佳為氟原子、氯原子及溴原子。
    於取代基Z1之中，作為上述烷基，可列舉與作為上述R1之烷基而例示之基相同者。該等之中，更佳為甲基及乙基，尤佳為甲基。
    於取代基Z1之中，作為上述烷基亞磺醯基，可列舉甲基亞磺醯基、乙基亞磺醯基、丙基亞磺醯基、異丙基亞磺醯基、丁基亞磺醯基、異丁基亞磺醯基、第二丁基亞磺醯基、第三丁基亞磺醯基、戊基亞磺醯基及己基亞磺醯基等。該等之中，較佳為碳數1~4之烷基亞磺醯基，更佳為碳數1~2之烷基亞磺醯基，尤佳為甲基亞磺醯基。
    於取代基Z1之中，作為上述烷基磺醯基，可列舉甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基、異丙基磺醯基、丁基磺醯基、異丁基磺醯基、第二丁基磺醯基、第三丁基磺醯基、戊基磺醯基及己基磺醯基等。該等之中，較佳為碳數1~4之烷基磺醯基，更佳為碳數1~2之烷基磺醯基，尤佳為甲基磺醯基。
    於取代基Z1之中，作為上述氟烷基，可列舉氟甲基、三氟甲基、氟乙基、五氟乙基、七氟丙基及九氟丁基等。該等之中，較佳為碳數1~4之氟烷基，更佳為碳數1~2之氟烷基，尤佳為三氟甲基。
    於取代基Z1之中，作為上述烷氧基，可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、戊氧基及己氧基等。該等之中，較佳為碳數1~4之烷氧基，更佳為碳數1~2之烷氧基，尤佳為甲氧基。
    於取代基Z1之中，作為上述烷基硫基，可列舉甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、丁基硫基、異丁基硫基、第二丁基硫基、第三丁基硫基、戊基硫基及己基硫基等。該等之中，較佳為碳數1~4之烷基硫基，更佳為碳數1~2之烷基硫基，尤佳為甲基硫基。
    於取代基Z1之中，作為上述N-烷基胺基，可列舉N-甲基胺基、N-乙基胺基、N-丙基胺基、N-異丙基胺基、N-丁基胺基、N-異丁基胺基、N-第二丁基胺基、N-第三丁基胺基、N-戊基胺基及N-己基胺基等。該等之中，較佳為碳數1~4之N-烷基胺基，更佳為碳數1~2之N-烷基胺基，尤佳為N-甲基胺基。
    於取代基Z1之中，作為上述N,N-二烷基胺基，可列舉N,N-二甲基胺基、N-甲基-N-乙基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-二丙基胺基、N,N-二異丙基胺基、N,N-二丁基胺基、N,N-二異丁基胺基、N,N-二戊基胺基及N,N-二己基胺基等。該等之中，較佳為碳數2~8之N,N-二烷基胺基，更佳為碳數2~4之N,N-二烷基胺基，尤佳為N,N-二甲基胺基。
    於取代基Z1之中，作為上述N-烷基胺磺醯基，可列舉N-甲基胺磺醯基、N-乙基胺磺醯基、N-丙基胺磺醯基、N-異丙基胺磺醯基、N-丁基胺磺醯基、N-異丁基胺磺醯基、N-第二丁基胺磺醯基、N-第三丁基胺磺醯基、N-戊基胺磺醯基及N-己基胺磺醯基等。該等之中，較佳為碳數1~4之N-烷基胺磺醯基，更佳為碳數1~2之N-烷基胺磺醯基，尤佳為N-甲基胺磺醯基。
    於取代基Z1之中，作為上述N,N-二烷基胺磺醯基，可列舉N,N-二甲基胺磺醯基、N-甲基-N-乙基胺磺醯基、N,N-二乙基胺磺醯基、N,N-二丙基胺磺醯基、N,N-二異丙基胺磺醯基、N,N-二丁基胺磺醯基、N,N-二異丁基胺磺醯基、N,N-二戊基胺磺醯基及N,N-二己基胺磺醯基等。該等之中，較佳為碳數2~8之N,N-二烷基胺磺醯基，更佳為碳數2~4之N,N-二烷基胺磺醯基，尤佳為N,N-二甲基胺磺醯基。
    取代基Z1較佳為鹵素原子、碳數1~2之烷基、氰基、硝基、碳數1~2之烷基磺醯基、碳數1~2之氟烷基、碳數1~2之烷氧基、碳數1~2之烷基硫基、碳數1~2之N-烷基胺基、碳數2~4之N,N-二烷基胺基及碳數1~2之烷基胺磺醯基，尤佳為鹵素原子、甲基、氰基、硝基、磺基、羧基、三氟甲基、甲氧基、甲基硫基、N,N-二甲基胺基及N-甲基胺基。
    於Y1為亦可具有取代基之單環系芳香族烴基或亦可具有取代基之單環系芳香族雜環基之情形時，作為Y1，可列舉分別以式(Y-1)~式(Y-6)所表示之基。
    [於式(Y-1)~式(Y-6)中，*表示鍵結鍵，Z1表示上述取代基Z1。
    a1表示0~5之整數，a2表示0~4之整數，b1表示0~3之整數，b2表示0~2之整數。R8表示氫原子或甲基。
    再者，於a1、a2、b1或b2為2以上之整數之情形時，複數個Z1相互可相同亦可不同]。
    該等之中，若Y1為以式(Y-1)或式(Y-3)所表示之基，則於可容易地製造化合物(A)之方面或成本方面而言尤佳。
    於Y1為亦可具有取代基之多環系芳香族烴基或亦可具有取代基之多環系芳香族雜環基之情形時，作為Y1，可列舉分別以式(Y1-1)~式(Y1-7)所表示之基。該等之中，較佳為以式(Y2-1)~式(Y2-6)所表示之基。
    [於式(Y1-1)~式(Y1-7)中，*表示鍵結鍵，Z1表示上述取代基Z1。
    V1及V2分別獨立地表示-CO-、-S-、-NR9-、-O-、-Se-或-SO2-。R9表示氫原子或碳數1~4之烷基。
    W1~W5分別獨立地表示-CH=或-N=。
    其中，V1、V2及W1~W5中之至少1個表示S、N、O或Se等雜原子或者含有該雜原子之基。
    a表示0~3之整數。
    b表示0~2之整數。
    再者，於a或b為2以上之整數之情形時，複數個Z1相互可相同亦可不同]。
    V1及V2較佳為分別獨立為-S-、-NR9-或-O-，W1~W5較佳為分別獨立為-CH=或-N=。
    a較佳為0或1，b較佳為0。
    [於式(Y2-1)~式(Y2-6)中，*、Z1、a、b、V1、V2及W1表示與上述相同之含義]。
    於分別以式(Y2-1)~式(Y2-6)所表示之基中，作為Z1，較佳為鹵素原子、甲基、乙基、異丙基、第二丁基、氰基、硝基、磺基、亞硝基、羧基、三氟甲基、甲氧基、甲基硫基、N,N-二甲基胺基及N-甲基胺基，更佳為鹵素原子、甲基、乙基、異丙基、第二丁基、氰基、硝基、三氟甲基，尤佳為甲基、乙基、異丙基、第二丁基、戊基及己基。
    作為以Q3及Q4所表示之脂肪族烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、己基、1-甲基戊基、4-甲基戊基、庚基、1-甲基己基、5-甲基己基、辛基、1-甲基庚基、壬基、1-甲基辛基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基及二十烷基等。該等之中，較佳為碳數1~12之烷基，尤佳為甲基及乙基。
    作為以Q3及Q4所表示之脂環式烴基，可列舉環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環壬基及環癸基等，較佳為碳數3~12之脂環式烴基(環狀烷基)。
    作為以Q3及Q4所表示之芳香族烴基，可列舉苯基、聯苯基、1-萘基、2-萘基、1-茀基、2-茀基及3-茀基等，較佳為碳數6~14之芳香族烴基。
    以Q3及Q4所表示之脂肪族烴基、脂環式烴基及芳香族烴基亦可分別具有取代基。作為該取代基，可列舉作為上述Z1而例示之基。以R2及R3所表示之碳數1~6之烷基，其中較佳為碳數1~4之烷基，更佳為甲基及乙基，尤佳為甲基。
    Q3及Q4亦可相互鍵結而形成芳香環或芳香族雜環。作為Q3與Q4所形成之環，較佳為芳香族雜環，例如若化合物(A)中之以式(Q')
    所表示之部分結構為以式(Q)所表示之部分結構，則更佳。
    [於式(Q)中，X2係與作為式(A)中之X1已進行例示之原子或基相同，Y2係與作為式(A)中之Y1已進行例示之基相同]。
    作為化合物(A)中之以式(ar)
    所表示之基，可列舉以式(ar-1)~式(ar-135)所表示之基。



    作為以式(ar)所表示之基，較佳為以式(ar-86)所表示之基，含有以式(ar-86)所表示之基之化合物(A)係該化合物(A)本身之製造更容易，容易控制由包含該化合物(A)之本組合物所形成之光學膜之相位差之波長分散性，故較理想。
    D1及D2較佳為分別獨立為-O-C(=O)-、-O-C(=S)-、-O-CR4R5-、-NR4-CR5R6-或-NR4-CO-，更佳為*-O-C(=O)-、*-O-C(=S)-、*-O-CR4R5-、*-NR4-CR5R6-或*-NR4-CO-，進而較佳為*-O-C(=O)-、*-O-C(=S)-或*-NR4-CO-。*表示與具有Q3及Q4之苯環之鍵結鍵。
    R4、R5、R6及R7較佳為分別獨立為氫原子或碳數1~4之烷基，更佳為氫原子、甲基或乙基。
    作為由G1及G2所表示之二價脂環式烴基，可列舉單環式烴基或交聯環式烴基，較佳為5員環或6員環。該脂環式烴基可為飽和亦可為不飽和，但較佳為飽和脂環式烴基。又，由G1及G2所表示之脂環式烴基亦存在構成其之亞甲基置換為氧原子、硫原子或-NH-之情形，或者構成其之次甲基置換為三級氮原子之情形。即，G1及G2亦可為含有雜原子之基。此處，若列舉G1及G2之具體例，則分別以式(g-1)~式(g-10)所表示者。
    由G1及G2所表示之二價脂環式烴基中所含之氫原子亦可經取代基(以下，視情況稱作「取代基Z2」)取代。作為上述取代基Z2，可列舉甲基、乙基、異丙基、第三丁基等碳數1~4之烷基；甲氧基、乙氧基等碳數1~4之烷氧基；三氟甲基等碳數1~4之氟烷基；三氟甲氧基等碳數1~4之氟烷氧基；氰基；硝基；氟原子、氯原子、溴原子等鹵素原子。
    作為G1及G2，較佳為以式(g-1)所表示之二價脂環式烴基。其中，G1及G2均更佳為環己烷-1,4-二基，尤佳為反式-環己烷-1,4-二基。
    式(A)中之L1及L2分別獨立為一價有機基，L1及L2中之至少一者為具有聚合性基之有機基。
    更佳為，L1係以式(A1)表示之基(以下，視情況稱作「基(A1)」)，L2係以式(A2)表示之基(以下，視情況稱作「基(A2)」)。
    P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
    P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)[於式(A1)及式(A2)中，B1、B2、E1及E2分別獨立地表示-CR4'R5'-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR1'-、-O-CH2-、-S-CH2-或單鍵；A1及A2分別獨立地表示碳數5~8之二價脂環式烴基或碳數6~18之二價芳香族烴基，構成該脂環式烴基之亞甲基亦可置換為氧原子、硫原子或-NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可置換為三級氮原子；k及l分別獨立地表示0~3之整數，於k為2以上之整數之情形時，複數個B1相互可相同亦可不同，複數個A1相互可相同亦可不同，於l為2以上之整數之情形時，複數個B2相互可相同亦可不同，複數個A2相互可相同亦可不同；F1及F2表示碳數1~12之二價脂肪族烴基；P1表示聚合性基；P2表示氫原子或聚合性基；R1'表示氫原子或碳數1~4之烷基；R4'及R5'分別獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基]。
    於基(A1)及基(A2)中，A1及A2中之二價脂環式烴基之具體例係與作為上述G1及G2之二價脂環式烴基而例示之基相同，其較佳例亦與G1及G2之較佳例相同。作為A1及A2中之二價芳香族烴基，既可為單環式亦可為多環式(包括複數個芳香環經單鍵転結之多環式及縮合多環式)。作為A1及A2中之二價芳香族烴基，例如可列舉分別以式(a-1)~式(a-8)所表示者。又，作為由A1及A2所表示之芳香族烴基，較佳為包含對稱軸或對稱面之基。
    A1及A2中之脂環式烴基及芳香族烴基中所含之氫原子亦可經取代基取代。作為該取代基，可列舉與作為由G1及G2所表示之脂環式烴基亦可任意具有之取代基Z2而例示之基相同者。
    作為A1及A2，較佳為分別獨立為1,4-伸苯基或環己烷-1,4-二基，就化合物(A)之製造變得更容易之方面而言，較佳為1,4-伸苯基。
    B1及B2有使化合物(A)之製造變得容易之傾向，因此較佳為相同種類之基。又，於k、l為2以上之整數之情形時，存在於2個A1之間的B1、存在於2個A2之間的B2若係-CH2-CH2-、-C(=O)-O-、-CO-NH-、-O-CH2-或單鍵，則有化合物(A)之製造變得更容易之傾向，故較理想。就容易形成顯示較高之液晶性之光學膜之方面而言，存在於2個A1之間的B1、存在於2個A2之間的B2均較佳為-C(=O)-O-。
    與F1鍵結之B1及與F2鍵結之B2更佳為分別獨立為-O-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-O-C(=O)-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或單鍵。
    k及l較佳為分別獨立地表示0~3之整數，k及l更佳為0~2。k與l之合計較佳為5以下，更佳為4以下。若k及l為上述範圍，則存在化合物(A)更容易顯示液晶性之傾向。
    F1及F2較佳為分別獨立為碳數1~12之烷二基，更佳為直鏈之烷二基。尤佳為未經取代之烷二基。該烷二基中所含之氫原子亦可取代為碳數1~5之烷氧基或鹵素原子。又，該烷二基中所含之亞甲基亦可置換為氧原子或-C(=O)-。
    P1及P2係氫原子或聚合性基，至少一者為聚合性基。於欲獲得硬度更優異之光學膜之情形時，較佳為包含P1及P2均為聚合性基之化合物(A)的本組合物。
    此處，所謂聚合性基，意指可使化合物(A)進行聚合之基，例示有乙烯基、乙烯氧基、苯乙烯基、對(2-苯基次乙基)苯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等具有乙烯性不飽和基之聚合性基；羧基；乙醯基；羥基；胺甲醯基；碳數1~4之烷基胺基；胺基；環氧乙烷基；環氧丙烷基、甲醯基、異氰酸酯基或異硫氰基等。
    作為聚合性基，較佳為自由基聚合性基及陽離子聚合性基，尤佳為丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基及甲基丙烯醯氧基。其中，聚合性基較佳為分別獨立為丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基，尤佳為丙烯醯氧基。
    若考慮化合物(A)之製造上之容易度，則較佳為該基(A1)與基(A2)為相同種類，即，L1與L2為相同種類。
    同樣地，於化合物(A)中，較佳為D1與D2為相同種類之基，G1與G2為相同種類之基，即，於化合物(A)中，由-D1G1-L1所表示之基與由-D2-G2-L2所表示之基為相同種類之基。若如此設定，則可更容易製造化合物(A)。
    作為L1為基(A1)之情形時之-D1-G1-L1之具體例及L2為基(A2)之情形時之-D2-G2-L2之具體例，可列舉分別由下述式(R-1)~式(R-134)所表示之基等。
    再者，式(R-1)~式(R-134)中之n表示2~12之整數，較佳為3~10，進而較佳為4~8。





    L1為基(A1)且L2為基(A2)之化合物(A)進而較佳為均滿足式(1)及式(2)之關係。
    (Nπ-4)/3<k+l+4 (1)
    12≦Nπ≦22 (2)[於式(1)及式(2)中，Nπ表示式(A)中，除-D1-G1-L1、-D2-G2-L2以外之部分所具有之芳香環中所含之π電子之數。k及l表示與上述相同之含義]。
    作為化合物(A)，例如可列舉下述化合物(i)~化合物(xxvii)。再者，表1中之R1表示-D1-G1-L1，R2表示-D2-G2-L2。
    於表1中，例如由(xvi)所表示之化合物(A)(以下，將該化合物(A)，與表1中之序號相應地稱作「化合物(xvi)」)意指以式(ar)所表示之基為以式(ar-39)所表示之基、且由-D1-G1-L1所表示之基為選自由上述(R-1)~(R-48)、(R-56)~(R-120)及(R-129)~(R-131)所組成之群之基、以及由-D2-G2-L2所表示之基為選自由上述(R-1)~(R-48)及(R-56)~(R-131)所組成之群之基之化合物。
    例如，化合物(xvi)意指以式(ar)所表示之基為以式(ar-39)所表示之基、且由-D1-G1-L1所表示之基為選自由上述(R-1)~(R-48)、(R-56)~(R-120)及(R-129)~(R-131)所組成之群之基、以及由-D2-G2-L2所表示之基為選自由上述(R-1)~(R-48)及(R-56)~(R-131)所組成之群之基之化合物與以式(ar)所表示之基為以式(ar-40)所表示之基、且由-D1G1L1所表示之基為選自由上述(R-1)~(R-48)、(R-56)~(R-120)及(R-129)~(R-131)所組成之群之基、以及由-D2-G2-L2所表示之基為選自由上述(R-1)~(R-48)及(R-56)~(R-131)所組成之群之基之化合物的混合物。
    作為表1之化合物之具體例，例如可列舉如下所述之化合物。於表1所示之化合物(A)之中，例示有化合物(i)、化合物(iii)、化合物(iv)、化合物(v)、化合物(viii)、化合物(ix)、化合物(x)、化合物(xv)、化合物(xvii)、化合物(xviii)、化合物(xix)、化合物(xx)、化合物(xxii)、化合物(xxiii)、化合物(xxiv)及化合物(xxv)之代表性結構式。以下化學式包括全部立體異構物。又，化合物(i)~(xxv)較佳為環己烷-1,4-二基全部為反式-環己烷-1,4-二基。




    進而，作為化合物(A)，亦可列舉分別以式(A1)~式(A61)所表示者。
    (式(A1)中之2個*與(A1-1)~(A1-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A2)中之2個*與(A2-1)~(A2-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A3)中之2個*與(A3-1)~(A3-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A4)中之2個*與(A4-1)~(A4-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A5)中之2個*與(A5-1)~(A5-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A6)中之2個*與(A6-1)~(A6-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A7)中之2個*與(A7-1)~(A7-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A8)中之2個*與(A8-1)~(A8-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A9)中之2個*與(A9-1)~(A9-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A10)中之2個*與(A10-1)~(A10-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A11)中之2個*與(A11-1)~(A11-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A12)中之2個*與(A12-1)~(A12-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A13)中之2個*與(A13-1)~(A13-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A14)中之2個*與(A14-1)~(A14-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A15)中之2個*與(A15-1)~(A15-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A16)中之2個*與(A16-1)~(A16-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A17)中之2個*與(A17-1)~(A17-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A18)中之2個*與(A18-1)~(A18-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A19)中之2個*與(A19-1)~(A19-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A20)中之2個*與(A20-1)~(A20-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A21)中之2個*與(A21-1)~(A21-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A22)中之2個*與(A22-1)~(A22-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A23)中之2個*與(A23-1)~(A23-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A24)中之2個*與(A24-1)~(A24-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A25)中之2個*與(A25-1)~(A25-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A26)中之2個*與(A26-1)~(A26-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A27)中之2個*與(A27-1)~(A27-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A28)中之2個*與(A28-1)~(A28-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A29)中之2個*與(A29-1)~(A29-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A30)中之2個*與(A30-1)~(A30-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A31)中之2個*與(A31-1)~(A31-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A32)中之2個*與(A32-1)~(A32-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A33)中之2個*與(A33-1)~(A33-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A34)中之2個*與(A34-1)~(A34-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A35)中之2個*與(A35-1)~(A35-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A36)中之2個*與(A36-1)~(A36-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A37)中之2個*與(A37-1)~(A37-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A38)中之2個*與(A38-1)~(A38-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A39)中之2個*與(A39-1)~(A39-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A40)中之2個*與(A40-1)~(A40-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A41)中之2個*與(A41-1)~(A41-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A42)中之2個*與(A42-1)~(A42-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A43)中之2個*與(A43-1)~(A43-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A44)中之2個*與(A44-1)~(A44-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A45)中之2個*與(A45-1)~(A45-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A46)中之2個*與(A46-1)~(A46-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A47)中之2個*與(A47-1)~(A47-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A48)中之2個*與(A48-1)~(A48-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A49)中之2個*與(A49-1)~(A49-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A50)中之2個*與(A50-1)~(A50-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A51)中之2個*與(A51-1)~(A51-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A52)中之2個*與(A52-1)~(A52-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A53)中之2個*與(A53-1)~(A53-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A54)中之2個*與(A54-1)~(A54-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A55)中之2個*與(A55-1)~(A55-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A56)中之2個*與(A56-1)~(A56-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A57)中之2個*與(A57-1)~(A57-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A58)中之2個*與(A58-1)~(A58-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A59)中之2個*與(A59-1)~(A59-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A60)中之2個*與(A60-1)~(A60-8)之任一個之*相鍵結)。
    (式(A61)中之2個*與(A61-1)~(A61-8)之任一個之*相鍵結)。
    又，作為化合物(A)，亦可使用以下者。


    化合物(A)係可藉由將Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新實驗化學講座等所揭示之縮合反應、酯化反應、威廉姆遜反應(Williamson reaction)、烏爾曼反應(Ullmann reaction)、維蒂希反應(Wittig reaction)、希夫鹼生成反應(Schiff base formation reaction)、苄基化反應、薗頭反應(Sonogashira reaction)、鈴木-宮浦反應(Suzuki-Miyaura reaction)、根岸反應(Negishi reaction)、熊田反應(Kumada reaction)、檜山反應(Hiyama reaction)、布赫瓦爾德-哈特維希反應(Buchwald-Hartwig reaction)、佛瑞德-克來福特反應(Friedel-Crafts reaction)、海克反應(Heck reaction)、醛醇反應(Aldol reaction)等適當組合而製造。
    以D1及D2為*-O-CO-之情形時之化合物(A)為例，對其製造方法進行簡單說明。首先，分別準備以式(1-1)所表示之化合物(化合物(1-1))及以式(1-2)所表示之化合物(化合物(1-2))，使該化合物(1-1)與化合物(1-2)進行反應，由此獲得以式(1-3)所表示之化合物(化合物(1-3))。
    [式中，X1、Y1、Q3及Q4表示與上述相同之含義]。
    [式中，G1、E1、A1、B1、F1、P1及k表示與上述相同之含義]。
    [式中，X1、Y1、Q1、Q2、G1、E1、A1、B1、F1、P1及k表示與上述相同之含義]。
    接著，使所獲得之化合物(1-3)與以式(1-4)所表示之化合物(化合物(1-4))進行反應，由此可製造化合物(A)。
    [式中，G2、E2、A2、B2、F2、P2及l表示與上述相同之含義]。
    化合物(1-1)與化合物(1-2)之反應及化合物(1-3)與化合物(1-4)之反應較佳為在酯化劑之存在下實施。
    作為酯化劑(縮合劑)，可列舉1-環己基-3-(2-啉基乙基)碳二醯亞胺甲基對甲苯磺酸酯(1-Cyclohexyl-3-(2-morpholinoethyl)carbodiimide Metho-p-toluenesulfonate)、二環己基碳二醯亞胺、1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺、1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽(一部分水溶性碳二醯亞胺：以Water Soluble Carbodiimide零售)、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺、雙(三甲基矽烷基)碳二醯亞胺、雙異丙基碳二醯亞胺等碳二醯亞胺；2-甲基-6-硝基安息香酸酐、2,2'-羰基雙-1H-咪唑、1,1'-乙二醯基二咪唑、二苯基疊氮基磷酸酯、1-(4-硝基苯磺醯基)-1H-1,2,4-三唑、1H-苯并三唑-1-基-氧基三吡咯烷基鏻六氟磷酸鹽、1H-苯并三唑-1-基-氧基三(二甲胺基)鏻六氟磷酸酯、N,N,N',N'-四甲基-O-(N-丁二醯亞胺基)脲四氟硼酸酯、N-(1,2,2,2-四氯乙氧基羰氧基)丁二醯亞胺、N-苄氧羰氧基丁二醯亞胺、O-(6-氯苯并三唑-1-基)-N,N,N',N'-四甲基脲四氟硼酸酯、O-(6-氯苯并三唑-1-基)-N,N,N',N'-四甲基脲六氟磷酸酯、2-溴-1-乙基吡啶鎓四氟硼酸酯、2-氯-1,3-二甲基咪唑啉鎓氯化物、2-氯-1,3-二甲基咪唑啉鎓六氟磷酸酯、2-氯-1-甲基吡啶鎓碘化物、2-氯-1-甲基吡啶鎓對甲苯磺酸酯、2-氟-1-甲基吡啶鎓對甲苯磺酸酯、三氯乙酸五氯苯基酯等。其中，就反應性、成本、可使用廣範圍之溶劑之方面而言，作為縮合劑，較佳為二環己基碳二醯亞胺、1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺、1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽、雙(2,6-二異丙基苯基)碳二醯亞胺、雙(三甲基矽烷基)碳二醯亞胺、雙異丙基碳二醯亞胺、2,2'-羰基雙-1H-咪唑。
    本組合物中之化合物(A)之含量係以相對於本組合物之固形物成分之含有比例來表示，較佳為10~99.9質量%之範圍，更佳為20~99質量%之範圍，進而較佳為50~97質量%之範圍，尤佳為80~95質量%之範圍。若化合物(A)之含量為上述範圍，則所獲得之光學膜係可於較寬之波長區域內進行均勻之偏光轉換。此處，所謂固形物成分，係指本組合物減去下述溶劑所得之量。再者，於本組合物中，化合物(A)亦可單獨使用，亦可將2種以上併用。 1-2.具有巰基之化合物(B)
    作為本組合物中所含之(B)具有巰基(-SH)之化合物(以下，視情況稱作「化合物(B)」)，較佳為具有2個以上之巰基之化合物。本發明者新發現如下情況：藉由使用含有2個以上之巰基之化合物，於由本組合物形成光學膜時，例如基板上塗敷本組合物時，抑制結晶化所導致之成膜異常，成膜性提高。
    作為化合物(B)，就難以擾亂液晶配向等方面而言，較理想的是脂肪族基中具有複數個巰基之脂肪族多官能硫醇化合物。
    例如，作為脂肪族多官能硫醇化合物的化合物(B)，可列舉己二硫醇、癸二硫醇、1,4-二甲基巰基苯、丁二醇雙硫代丙酸酯(Butanediol bisthiopropionate)、丁二醇雙巰基乙酸酯(Butanediol bisthioglycolate)、乙二醇雙巰基乙酸酯(Ethylene glycol bisthioglycolate)、三羥甲基丙烷三硫代丙酸酯、三羥甲基丙烷三巰基乙酸酯、季戊四醇四硫代丙酸酯、季戊四醇葡萄糖酸酯、三羥乙基三硫代丙酸酯等。又，除該等化合物以外，亦可使用多元羥基化合物之巰基乙酸酯、硫代丙酸酯等。
    作為可由市場購買之化合物(B)，例如可列舉Karenz MTBD1、Karenz MTPE1(昭和電工製造，註冊商標)、TMMP、PEMP、EGMP-4、DPMP(堺化學製造)。
    作為化合物(B)之較佳例之一，可列舉含有-O-CO-R-SH基(其中，R係碳數1~5之直鏈或支鏈之烷二基)之化合物(以下，視情況稱作「化合物(B1)」)。此種化合物典型的是由以下之式(B1)所表示。
    於式(B1)中，R係與上述相同之含義，m1表示2~6之整數。B1係m1價之脂肪族烴基、m價之脂環式烴基或m1價之芳香族烴基，此處所述之m1價意指-O-CO-R-SH基相對於B1之鍵結數(價數)。
    若具體例示化合物(B1)，則可列舉分別由下述式(2-1)~(2-13)所表示之化合物。
    本組合物中之化合物(B)之含量係相對於本組合物之合計100質量份，較佳為0.1質量份~10質量份之範圍，進而較佳為0.1質量份~5質量份之範圍。若係上述範圍內，則不會擾亂組合物之配向性，便可使本組合物中之聚合性成分進行聚合。 1-3.光聚合起始劑(C)
    本組合物包含光聚合起始劑。光聚合起始劑係藉由光之作用而產生活性自由基，從而可使化合物(A)開始聚合之化合物。作為光聚合起始劑，可列舉烷基苯酮化合物、安息香化合物、二苯甲酮化合物及肟化合物等。
    作為上述烷基苯酮化合物，可列舉α-胺基烷基苯酮化合物、α-羥基烷基苯酮化合物及α-烷氧基烷基苯酮化合物。
    作為上述α-胺基烷基苯酮化合物，可列舉2-甲基-2-啉基-1-(4-甲基硫基苯基)丙烷-1-酮、2-二甲基胺基-1-(4-啉基苯基)-2-苄基丁烷-1-酮及2-二甲基胺基-1-(4-啉基苯基)-2-(4-甲基苯基甲基)丁烷-1-酮等，較佳為可列舉2-甲基-2-啉基-1-(4-甲基硫基苯基)丙烷-1-酮及2-二甲基胺基-1-(4-啉基苯基)-2-苄基丁烷-1-酮等。上述α-胺基烷基苯酮化合物係亦可使用Irgacure(註冊商標)369、379EG、907(以上，由BASF日本(股)製造)及Seikuol(註冊商標)BEE(精工化學公司製造)等零售品。
    作為上述α-羥基烷基苯酮化合物，可列舉2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之寡聚物等。上述α-羥基烷基苯酮化合物係亦可使用Irgacure 184、2959、127(以上，由BASF日本(股)製造)及Seikuol Z(精工化學公司製造)等零售品。
    作為上述α-烷氧基烷基苯酮化合物，可列舉二乙氧基苯乙酮、苄基二甲基縮酮等。上述α-烷氧基烷基苯酮化合物係亦可使用Irgacure 651(以上，由BASF日本(股)製造)等零售品。
    作為上述烷基苯酮化合物，較佳為α-胺基烷基苯酮化合物，更佳為以式(C-1)所表示之化合物。若本組合物中所含之光聚合起始劑為該等化合物，則存在所獲得之光學膜之耐熱性及耐濕熱性優異之傾向。
    [於式(C-1)中，Q3表示氫原子或甲基]。
    作為上述安息香化合物，例如可列舉安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚及安息香異丁基醚等。
    作為上述二苯甲酮化合物，例如可列舉二苯甲酮、鄰苯甲醯安息香酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯-4'-甲基二苯基硫醚及3,3',4,4'-四(過氧化第三丁基羰基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
    作為上述肟化合物，可列舉N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基硫基苯基)丁烷-1-酮-2-亞胺、N-苯甲醯氧基-1-(4-苯基硫基苯基)辛烷-1-酮-2-亞胺、N-乙醯氧基-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙烷-1-亞胺及N-乙醯氧基-1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(3,3-二甲基-2,4-二環戊基甲氧基)苯甲醯基}-9H-咔唑-3-基]乙烷-1-亞胺等。作為上述肟化合物，亦可使用Irgacure OXE-01、OXE-02(以上，由BASF日本公司製造)、N-1919(ADEKA公司製造)等零售品。
    上述光聚合起始劑係亦可將上述苯乙酮化合物、上述安息香化合物、上述二苯甲酮化合物、上述肟化合物等單獨使用，亦可將2種以上併用。於該等之中，較佳為使用苯乙酮化合物作為光聚合起始劑。上述苯乙酮化合物之使用量係相對於光聚合起始劑總量，較佳為90質量份以上，更佳為光聚合起始劑總量為苯乙酮化合物。
    本組合物中之光聚合起始劑之含量係以相對於本組合物之固形物成分之含有比例來表示，較佳為0.1質量%~30質量%之範圍，更佳為0.5質量%~10質量%之範圍。若係上述範圍內，則將本組合物中所含之聚合性成分進行聚合時，可更抑制擾亂化合物(A)之配向。 1-4.液晶化合物(A')
    本發明之組合物亦可包含與化合物(A)不同之液晶化合物(以下，視情況稱作「液晶化合物(A')」)。作為上述液晶化合物(A')之具體例，可列舉液晶便覽(液晶便覽編輯委員會編，丸善(股)平成12年(2000年)10月30日發行)之第3章 分子結構與液晶性的3.2非手性棒狀液晶分子、3.3手性棒狀液晶分子所揭示之化合物，以及日本專利特開2010-31223號公報所揭示之化合物等。
    其中，較佳為具有聚合性基且表示液晶性之化合物。上述液晶化合物(A')亦可單獨使用，或者將2種以上組合使用。
    作為上述液晶化合物(A')，例如可列舉以式(3)所表示之化合物(以下，視情況稱作「化合物(3)」)等。
    P11-E11-(B11-A11)t-B12-G (3)[於式(3)中，A11表示亦可具有取代基之芳香族雜環、亦可具有取代基之芳香族烴基或亦可具有取代基之脂環式烴基；B11及B12分別獨立地表示-C≡C-、-CH=CH-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-CS-、-O-CO-O-、-CR13R14-、-CR13R14-CR15R16-、-O-CR13R14-、-CR13R14-O-CR15R16-、-CO-O-CR13R14-、-O-CO-CR13R14-、-CR13R14-O-CO-CR15R16-、-CR13R14-CO-O-CR15R16-、-NR13-CR14R15-、-CH=N-、-N=N-、-CO-NR16-、-OCH2-、-OCF2-、-CH2O-、-CF2O-、-CH=CH-CO-O-或單鍵，R13~R16表示氫原子或碳數1~4之烷基；G表示氫原子、鹵素原子、碳數1~13之烷基、碳數1~13之烷氧基、碳數1~13之氟烷基、碳數1~13之N-烷基胺基、氰基、硝基或-E12-P12；E11及E12表示碳數1~18之烷二基，該烷二基中所含之氫原子亦可經鹵素原子取代，該烷二基中所含之亞甲基亦可置換為氧原子或-CO-；P11及P12表示聚合性基；t表示1~5之整數，於t為2以上之整數之情形時，複數個B11相互可相同亦可不同，複數個A11相互可相同亦可不同]。
    作為由A11所表示之芳香族烴環，可列舉苯環、萘環、蒽環及啡啉環等，作為芳香族雜環，可列舉呋喃環、吡咯環、噻吩環、吡啶環、噻唑環及苯并噻唑環等。其中，較佳為苯環、噻唑環及苯并噻唑環。作為由A11所表示之芳香族烴環或芳香族雜環，例如可列舉分別以式(Ar-1)~式(Ar-11)所表示之二元基。
    [於式(Ar-1)~式(Ar-11)中，X3表示與式(A)中之X3相同之含義，同一基中所存在之複數個X1相互可相同亦可不同；Y3表示與作為式(A)中之Y1已進行例示之基相同者；Z3表示與作為式(A)中之Z1已進行例示之基相同者；Wa及Wb分別獨立地表示氫原子、氰基、甲基或鹵素原子；m表示0~6之整數；n表示0~4之整數；o表示0~2之整數；於m、n及o為2以上之整數之情形時，同一基中所存在之複數個Z3相互可相同亦可不同]。
    作為由A11所表示之芳香族烴環或芳香族雜環，較佳為分別以式(Ar-1)及式(Ar-7)所表示之基，具體而言例示有下述基。
    由A11所表示之脂環式烴基之碳數例如為3~18之範圍，較佳為5~12之範圍，尤佳為5或6。作為由A11所表示之脂環式烴基，可列舉環己烷-1,4-二基等。作為該脂環式烴基所亦可具有之取代基，可列舉鹵素原子、亦可具有氟基之碳數1~6之烷基、亦可具有氟基之碳數1~6之烷氧基、硝基及氰基。
    作為由P11及P12所表示之聚合性基，可列舉與作為化合物(A)之由P1及P2所表示之聚合性基而例示之基相同之基。就可在更低溫度下進行聚合(可硬化)之方面而言，較佳為光聚合性基，較佳為自由基聚合性基或陽離子聚合性基，尤其是就操作容易，而且化合物(3)之製造亦容易之方面而言，作為由P11及P12所表示之聚合性基，較佳為分別以式(P-1)~(P-5)所表示之基。
    [於式(P-1)~(P-5)中，R17~R21分別獨立地表示碳數1~6之烷基或氫原子；*表示與B11之鍵結鍵]。
    E11及E12係碳數1~18之烷二基，較佳為直鏈狀或支鏈點為1處之碳數1~12之烷二基。
    作為化合物(3)，例如可列舉以下者。
    於本組合物包含液晶化合物(A')之情形時，其含量係例如相對於液晶化合物(A')與化合物(A)之合計量100質量份，液晶化合物(A')為90質量份以下，較佳為70質量份以下，進而較佳為40質量份以下。
    由本組合物所形成之光學膜之波長分散特性係可藉由本組合物包含化合物(A)與液晶化合物(A')而控制。具體而言，於光學膜中所含之聚合物(化合物(A)之聚合物、或者化合物(A)與液晶化合物(A')之(共)聚合物)中，根據源自化合物(A)之結構單元之含量及源自液晶化合物(A')之結構單元之含量而可形成具有所需之波長分散特性之光學膜。若增加光學膜中所存在之上述聚合物之源自化合物(A)之結構單元之含量，則存在更表示逆波長分散特性之傾向。為形成具有所需之波長分散特性之光學膜，製備源自化合物(A)之結構單元之含量各不相同之本組合物2~5種左右，對各個本組合物，製造相同膜厚之光學膜而求得其相位差值。繼而，根據結果，求得源自化合物(A)之結構單元之含量與光學膜之相位差值之關聯，並根據所獲得之關聯關係，決定用以對上述膜厚中之光學膜賦予所需之相位差值所必要的源自化合物(A)之結構單元之含量即可。 1-5.有機溶劑
    本組合物係為使光學膜製造之操作性變得良好，較佳為包含溶劑，尤佳為包含有機溶劑。作為有機溶劑，較佳為可溶解化合物(A)等本組合物之構成成分之有機溶劑，進而更佳為對化合物(A)等之聚合反應而言惰性之溶劑。具體而言可列舉甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單甲基醚及苯酚等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲基醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮及甲基異丁基酮等酮系溶劑；戊烷、己烷及庚烷等非氯系脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等非氯系芳香族烴溶劑；乙腈等腈系溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿及氯苯等氯系溶劑；等。該等有機溶劑亦可單獨使用，亦可將複數種組合使用。於該等有機溶劑之中，較佳為醇、酯系溶劑、酮系溶劑、非氯系脂肪族烴溶劑及非氯系芳香族烴溶劑。尤其是，構成本組合物之構成成分(化合物(A)、化合物(B)及光聚合起始劑)係相溶性優異，且亦可溶解於醇系溶劑、酯系溶劑、酮系溶劑、非氯系脂肪族烴溶劑及氯系芳香族烴溶劑等，因此即便不使用氯仿等氯系溶劑，亦可塗敷於適當之基板上而可獲得可製造光學膜之組合物。
    再者，於本組合物包含有機溶劑之情形時，其含量係相對於固形物成分100質量份，較佳為10質量份~10000質量份，更佳為100質量份~5000質量份。又，本組合物中之固形物成分濃度較佳為2質量%~50質量%，更佳為5~50質量%。
    又，本組合物視需要亦可包含光敏劑、調平劑及手性劑等添加劑。以下，對本組合物可任意包含之該等添加劑，進行說明。 1-6.光敏劑
    作為光敏劑，例如可列舉酮及9-氧硫等酮類；具有蒽及烷基醚等取代基之蒽類；酚噻嗪；紅螢烯。
    藉由使用光敏劑，可使化合物(A)等之聚合變得高靈敏化。又，作為光敏劑之使用量，相對於化合物(A)100質量份，例如為0.1質量份~30質量份，較佳為0.5質量份~10質量份。 1-7.調平劑
    作為調平劑，可列舉有機改質矽油系、聚丙烯酸酯系及全氟烷基系之調平劑等。具體而言，例如可列舉DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上，全部由東麗道康寧(Dow Corning Toray)(股)製造)、KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001(以上，全部由信越化學工業(股)製造)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上，全部由Momentive Performance Materials日本合同公司製造)、fluorinert(註冊商標)FC-72、fluorinert FC-40、fluorinert FC-43、fluorinert FC-3283(以上，全部由住友3M(股)製造)、Megafac(註冊商標)R-08、Megafac R-30、Megafac R-90、Megafac F-410、Megafac F-411、Megafac F-443、Megafac F-445、Megafac F-470、Megafac F-477、Megafac F-479、Megafac F-482、Megafac F-483(以上，均由DIC(股)製造)、Eftop(商品名)EF301、Eftop EF303、Eftop EF351、Eftop EF352(以上，全部由三菱綜合材料電子化成(股)製造)、Surflon(註冊商標)S-381、Surflon S-382、Surflon S-383、Surflon S-393、Surflon SC-101、Surflon SC-105、KH-40、SA-100(以上，全部由AGC SEIMI Chemical(股)製造)、商品名E1830、商品名E5844((股)大金精密化學(Daikin Fine Chemical)研究所製造)、BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353、BYK-361N(均由商品名：BM Chemie公司製造)等。該等調平劑亦可單獨使用，亦可將2種以上併用。
    藉由使用調平劑，可使所獲得之光學膜變得更平滑化。進而，於光學膜之製造過程中，可控制組合物(A)之流動性，或者調整將化合物(A)等進行聚合所獲得之光學膜之交聯密度。又，調平劑之使用量係相對於化合物(A)100質量份，例如為0.1質量份~30質量份，較佳為0.5質量份~10質量份。 1-8.手性劑
    作為手性劑，可使用眾所周知之手性劑(例如，記載於液晶元件手冊，第3章4-3項，TN(Twisted Nematic，扭轉向列)、STN(Super Twisted Nematic，超扭轉向列)用手性劑，199頁，日本學術振興會第142委員會編，1989)。
    手性劑通常含有不對稱碳原子，但亦可將不含不對稱碳原子之軸性不對稱化合物或面性不對稱化合物用作手性劑。於軸性不對稱化合物或面性不對稱化合物之例中，可列舉聯萘、螺烯(Heliceen)、對環芳烷(paracyclophane)及該等之衍生物。
    例如可列舉如日本專利特開2007-269640號公報、日本專利特開2007-269639號公報、日本專利特開2007-176870號公報、日本專利特開2003-137887號公報、日本專利特表2000-515496號公報、日本專利特開2007-169178號公報、日本專利特表平9-506088號公報所揭示之化合物，較佳為可列舉BASF日本(股)製造之paliocolor(註冊商標)LC756。
    手性劑之使用量係例如相對於化合物(A)100質量份，例如為0.1質量份~30質量份，較佳為1.0質量份~25質量份。若係上述範圍內，則將組合物中所含之聚合性成分進行聚合時，可更抑制擾亂化合物(A)之配向。 2.光學膜
    接著，對由本組合物所形成之光學膜(以下，視情況稱作「本光學膜」)進行說明。
    本光學膜係將上述本組合物中所含之聚合性成分進行聚合而成者。本光學膜係可使光穿透之膜，且係具有光學功能之膜。所謂光學功能，意指折射、雙折射等。
    本光學膜係可見光區域中之透明性優異，故而可用作各種顯示裝置用構件。本光學膜之厚度係可根據本光學膜之用途而適當調節，例如根據其相位差值而適當調節即可，較佳為0.1 μm~10 μm，就減小光彈性之方面而言，進而較佳為0.2 μm~5 μm。
    於顯示裝置中使用本光學膜之情形時，本光學膜亦可以單層使用，亦可將本光學膜複數張積層而製成積層體，亦可與其他膜組合。藉由與其他膜組合使用，從而可利用於相位差膜、視覺補償膜、視覺放大膜、抗反射膜、偏光膜、圓偏光膜、橢圓偏光膜及增亮膜等中。
    尤其是，本光學膜係根據化合物(A)之配向狀態而改變光學特性，由此可作為VA(vertical alignment，垂直配向)模式、IPS(in-plane switching，平面切換)模式、OCB(optically compensated bend，光學補償彎曲)模式、TN(twisted nematic)模式、STN(super twisted nematic)模式等各種液晶顯示裝置用之相位差膜而進行調整。 2-1.相位差膜
    作為光學膜之一種之相位差膜係本光學膜之較佳實施態樣之一。該相位差膜係為了將直線偏光轉換為圓偏光或橢圓偏光，或者相反將圓偏光或橢圓偏光轉換為直線偏光，或者轉換直線偏光之偏光方向而使用。
    作為上述相位差膜，將面內之遲相軸方向之折射率設為nx、將面內之與遲相軸正交之方向(進相軸方向)之折射率設為ny、將厚度方向之折射率設為nz之情形時，眾所周知可如下所述分類。即，可列舉nx>ny≒nz之正A板，nx≒ny>nz之負C板，nx≒ny<nz之正C板，nx≠ny≠nz之正O板及負O板。
    上述相位差膜之相位差值係根據所使用之顯示裝置，自30~300 nm之範圍適當選擇即可。
    於將上述相位差膜用作寬頻帶λ/4板之情形時，將Re(549)調整為113~163 nm，較佳為調整為130~150 nm即可。於用作寬頻帶λ/2板之情形時，將Re(549)調整為250~300 nm，較佳為調整為265~285 nm即可。若相位差值為上述值，則存在相對於廣範圍之波長之光，可均勻地進行偏光轉換之傾向，故較理想。此處，所謂寬頻帶λ/4板，係指相對於各波長之光，表現其1/4之相位差值之相位差膜，所謂寬頻帶λ/2板，係指相對於各波長之光，表現其1/2之相位差值之相位差膜。此處所述之Re將於下文中進行敍述。
    再者，藉由適當調整本組合物中之化合物(A)及液晶化合物(A')之含量，可以賦予所需之相位差之方式製備膜厚。所獲得之相位差膜之相位差值(延遲值，Re(λ))係如式(4)般決定，因此為活動所需之Re(λ)，適當調整△n(λ)與膜厚d即可。
    Re(λ)=d×△n(λ) (4)(式中，Re(λ)表示波長λ nm中之相位差值，d表示膜厚，△n(λ)表示波長λ nm中之雙折射率)。 2-2.本光學膜之製造方法
    本光學膜係可藉由如下方式製造：準備適當之基材，於該基材上塗敷本組合物，進行乾燥，使本組合物中所含之化合物(A)進行聚合，或者使化合物(A)與液晶化合物(A')進行聚合。以下，對本光學膜之製造方法之一例進行說明。 2-2-0.基材之準備
    作為製造本光學膜時可使用之基材，例如較佳為玻璃、塑膠片、塑膠膜、透光性膜。作為上述透光性膜，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、降烯系聚合物等聚烯烴膜，聚乙烯醇膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚甲基丙烯酸酯膜、聚丙烯酸酯膜、纖維素酯膜、聚萘二甲酸乙二酯膜、聚碳酸酯膜、聚碸膜、聚醚碸膜、聚醚酮膜、聚苯硫醚膜及聚苯醚膜等。
    再者，於相關基材之塗敷有本組合物之面上，亦可形成有配向膜。 2-2-1.未聚合膜之製作
    於基材上塗敷本組合物，由此於該基材上可獲得未聚合膜。於未聚合膜表示向列相等液晶相之情形時，具有藉由單疇(monodomain)配向之雙折射性。
    作為對基材上之塗敷方法，例如可列舉擠壓塗佈法、直接凹版塗佈法、反向凹版塗佈法、CAP(覆蓋)塗佈法、模塗法、噴墨法、浸塗法、狹縫塗佈法、旋轉塗佈法及利用棒式塗佈機之塗敷等。其中，就以連續捲繞(roll to roll)形式可連續在基材上塗敷本組合物之方面而言，較佳為CAP塗佈法、噴墨法、浸塗法、狹縫塗佈法及利用棒式塗佈機之塗敷。根據本組合物，即便利用上述任一種塗敷方法形成未聚合膜，亦皆可良好地防止該未聚合膜中，本組合物之構成成分(化合物(A)等聚合性液晶化合物等)產生結晶化。
    本光學膜係亦可以與上述基材積層之狀態使用。預先在本光學膜上積層上述基材，由此於進行膜之搬運、保管等時，抑制本光學膜破裂，從而可容易進行操作。
    如上所述，對製造本光學膜時，將基材直接，或者基材上形成配向膜後，塗敷本組合物之情況進行了敍述，但較佳為預先在上述基材上形成配向膜後，於該配向膜上塗敷本組合物。若使用如此形成有配向膜之基材，則無需對本光學膜進行藉由延伸之折射率控制，故而雙折射之面內偏差減小。因此，可製造亦可應對平板顯示裝置(FPD)之大型化的較大之本光學膜。
    作為形成配向膜之方法，可列舉使用利用摩擦而賦予配向限制力之配向性聚合物的方法(以下，視情況稱作「摩擦法」)、使用藉由照射偏光而賦予配向限制力之光配向性聚合物的方法(以下，視情況稱作「光配向法」)、於基板表面上斜向蒸鍍氧化矽之方法、以及使用Langmuir-Blodgett法(LB法)形成具有長鏈烷基之單分子膜之方法等。其中，就本組合物中所含之化合物(A)之配向均勻性、本光學膜製造之處理時間及處理成本之觀點而言，較佳為摩擦法及光配向法，更佳為光配向法。作為配向膜，較佳為具有即便其上面塗敷本組合物，亦不會溶解於本組合物中所含之成分，例如本組合物中所含之溶劑之程度的耐溶劑性。又，亦要求該配向膜具有自上述未乾燥膜去除溶劑或者化合物(A)或液晶化合物(A')之液晶配向時之對熱處理之耐熱性，以及相對於作為底層之基材之密著性。
    於利用摩擦法形成配向膜之情形時，作為摩擦法中所使用之配向性聚合物，例如可列舉分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺及作為其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改質聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚唑、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酸或聚丙烯酸酯類等聚合物。作為配向膜形成用材料，亦可使用Sunever(註冊商標，日產化學工業股份有限公司製造)或Optomer(註冊商標，JSR股份有限公司製造)等零售品。
    於利用光配向法形成配向膜之情形時，作為光配向法中所使用之光配向性聚合物，可列舉具有感光性結構之聚合物。若對具有感光性結構之聚合物照射偏光，則被照射之部分之感光性結構進行異構化或交聯，由此光配向性聚合物進行配向，對包含光配向性聚合物之膜賦予配向限制力。作為上述感光性結構，例如可列舉偶氮苯結構、順丁烯二醯亞胺結構、查爾酮結構、桂皮酸結構、1,2-伸乙烯基結構、1,2-乙炔結構、螺吡喃結構、螺苯并吡喃結構及俘精酸酐(fulgide)結構等。該等聚合物亦可單獨使用，亦可將2種以上併用。該等聚合物係可使用具有感光性結構之單體，藉由利用脫水或脫胺等之聚縮合，或者自由基聚合、陰離子聚合、陽離子聚合等連鎖聚合、配位聚合或開環聚合等而獲得。又，亦可使用具有不同感光性結構之單體複數種，亦可為彼等之共聚物。作為此種光配向性聚合物，可列舉日本專利第4450261號、日本專利第4011652號、日本專利特開2010-49230號公報、日本專利第4404090號、日本專利特開2007-156439號公報、日本專利特開2007-232934號公報等所揭示之光配向性聚合物。
    為了在基材上形成配向膜，將上述配向性聚合物及光配向性聚合物製成溶解於溶劑之溶液(配向膜形成用組合物)，並將該配向膜形成用組合物塗敷於該基材上之方法既簡單又較佳。配向膜形成用組合物中所使用之溶劑係可根據溶解於該溶劑之配向性聚合物及光配向性聚合物之種類等而適當選擇，具體而言可列舉水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚或丙二醇單甲基醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲基醚乙酸酯或乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮或甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷或庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯或二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃或二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿或氯苯等氯系溶劑；等。該等有機溶劑亦可單獨使用，亦可將複數種組合使用。
    為了由配向膜形成用組合物形成配向膜，如上所述，首先，於上述基材上塗敷該配向膜形成用組合物。作為塗敷方法，可採用與已進行說明之作為將本組合物塗敷於基材上之方法而例示者相同之方法。於該情形時，就商業生產之方面而言，亦較佳為以連續捲繞形式可連續在基材上塗敷本組合物之方法。
    接著，將基材上塗敷有配向膜形成用組合物之塗敷膜(配向膜形成用塗敷膜)進行乾燥，並由該配向膜形成用塗敷膜去除該配向膜形成用組合物中所含之溶劑等低沸點成分。
    作為乾燥方法，例如可列舉自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥或減壓乾燥等，或者將該等組合之方法。作為具體的乾燥溫度，較佳為10~250℃，進而較佳為25~200℃。又，作為乾燥時間，亦根據所使用之配向膜形成用組合物中所含之溶劑之種類而有所不同，但較佳為5秒鐘~60分鐘，更佳為10秒鐘~30分鐘。若乾燥溫度及乾燥時間為上述範圍內，則使用上述基材之任一種之情形時，均可抑制對該基材之損傷。
    對如此形成於基材上之配向膜形成用塗敷膜，利用已進行說明之方法賦予配向限制力而形成配向膜。此處，對作為賦予配向限制力之較佳方法已進行例示之摩擦法及光配向法進行詳述。
    作為對上述配向膜形成用塗敷膜利用摩擦法賦予配向限制力之方法，例如可列舉如下方法：準備捲繞摩擦布而正進行旋轉之摩擦輥，並將基材上形成有配向膜形成用塗敷膜之積層體載置於載物台，朝著正進行旋轉之摩擦輥搬送，由此使該配向膜形成用塗敷膜與正進行旋轉之摩擦輥相接觸。
    為了利用摩擦法，以分成配向限制力之方向相互不同之複數個圖案區域之方式，對上述配向膜形成用塗敷膜賦予配向限制力，例如如下所述即可。再者，將包括如此配向限制力之方向相互不同之複數個圖案區域的配向膜稱作「圖案化配向膜」。
    首先，對配向膜形成用塗敷膜之表面，未介隔遮罩，實施第1摩擦處理。藉由該第1摩擦處理，使上述表面全域之配向限制力之方向對應於第1摩擦處理方向。接著，於上述第1摩擦處理後之配向膜形成用塗敷膜上積層遮罩(第1遮罩)，並沿著與上述第1摩擦處理方向不同之第2摩擦處理方向實施第2摩擦處理。藉由該第2摩擦處理，改變第2圖案區域之配向限制力之方向而對應於上述第2摩擦處理方向。即便進行該第2摩擦處理，上述配向膜形成用塗敷膜之表面中之被第1遮罩覆蓋之區域亦不受摩擦，因此維持藉由上述第1摩擦處理之配向限制力。藉此，可獲得包括配向限制力之方向相互不同之複數個圖案區域的圖案化配向膜。
    再者，於上述乾燥後之配向性聚合物膜上，積層包括與第1圖案區域相對應之空隙部之第1遮罩(剩餘區域成為實部)而進行第1摩擦處理，接著，積層包括與第2圖案區域相對應之空隙部之第2遮罩(剩餘區域成為實部)而進行第2摩擦處理，由此亦可形成圖案化配向膜。進而，介隔3種以上之遮罩反覆進行摩擦處理，由此亦可製作包括配向限制力之方向相互不同之3個以上之圖案區域的圖案化配向膜。
    用以製造圖案化配向膜之遮罩具有例如將條紋狀之實部與條紋狀之空隙部以相互相同之寬度交替地排列配置之圖案。設定實部與空隙部之寬度與顯示元件基板之複數個像素之列方向或行方向之排列之間距相等。作為構成遮罩之材料，可列舉SUS(不鏽鋼)、鐵、鋁板等金屬，PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PET(聚對苯二甲酸乙二酯)、PP(聚丙烯)、PE(聚乙烯)、PC(聚碳酸酯)等塑膠等，只要係不會由於摩擦處理而破碎之材料即可。又，遮罩之膜厚較佳為20 μm~5 mm，更佳為30 μm~1 mm。
    其次，關於對配向膜形成用塗敷膜利用光配向法賦予配向限制力之光配向法，進行說明。
    為了利用光配向法賦予配向限制力，於配向膜形成用塗敷膜上進行偏光照射(例如，直線偏光紫外線)。偏光照射係可使用例如日本專利特開2006-323060號公報所揭示之裝置而進行。例如，於配向膜形成用塗敷膜上，例如準備與所需之複數個區域相對應之光罩，對每個該區域反覆進行介隔光罩之偏光照射(例如，直線偏光紫外線)，由此可形成圖案化配向膜。作為上述光罩，例如可列舉在石英玻璃、鹼石灰玻璃或聚酯等之膜上設置有遮光圖案者。被遮光圖案覆蓋之部分係由曝光之光遮斷，未被覆蓋之部分係使曝光之光穿透。因熱膨脹之影響較小，故而作為光罩中所使用之基材，較佳為石英玻璃。
    利用光配向法，亦可形成圖案化配向膜。此處，列舉其一例。首先，對配向膜形成用塗敷膜(包含光配向性聚合物)，介隔包括與第1圖案區域相對應之空隙部之第1光罩(剩餘區域成為遮光圖案)，照射具有第1偏光方向之第1偏光(第1偏光照射)。藉由該第1偏光照射，使上述第1圖案區域之配向限制力之方向對應於上述第1偏光方向。接著，介隔包括與第2圖案區域相對應之空隙部之第2光罩(剩餘區域成為遮光圖案)，照射具有與上述第1偏光方向不同之第2偏光方向(例如，與第1偏光方向呈垂直之方向)之第2偏光(第2偏光照射)。藉由該第2偏光照射，使上述第2圖案區域12之配向限制力之方向對應於上述第2偏光方向。藉此，可獲得包括配向限制力之方向相互不同之複數個圖案區域的配向膜。進而，介隔3種以上之光罩反覆進行偏光照射，由此亦可製作包括配向限制力之方向相互不同之3個以上之圖案區域的圖案化配向膜。就光配向性聚合物之反應性之方面而言，各偏光照射及所照射之光均較佳為紫外線。
    如此形成於基材上之配向膜或圖案化配向膜之膜厚例如為10 nm~10000 nm，較佳為10 nm~1000 nm。若設為此種範圍，則可以所需之角度將本組合物中所含之液晶性成分(化合物(A)、液晶化合物(A'))進行配向。 2-2-2.未聚合膜之聚合
    使形成於基材上或配向膜上之上述未聚合膜中所含之化合物(A)進行聚合，或者使未聚合膜中所含之化合物(A)與液晶化合物(A')進行聚合，使其硬化，由此可獲得光學膜。於光學膜中，化合物(A)之配向性得以固定化，故而難以受到熱所引起之雙折射之變化之影響。
    作為使化合物(A)進行聚合，或者使化合物(A)與液晶化合物(A')進行聚合之方法，較佳為光聚合法。根據光聚合法，可在低溫下實施聚合，故而所使用之基材之耐熱性之選擇幅度較寬。光聚合反應係藉由對未聚合膜照射可見光、紫外光或雷射光而進行。就操作之方面而言，尤佳為紫外光。
    亦可對基材上或配向膜上塗敷本組合物所形成之未聚合膜直接進行光照射，使得該未聚合膜進行硬化，但較佳為預先將該未聚合膜進行乾燥而自該未聚合膜去除溶劑。即便係如此將未聚合膜進行乾燥之情形時，亦可良好地防止該未聚合膜中，本組合物之構成成分(化合物(A)等聚合性液晶化合物等)產生結晶化。
    再者，溶劑之去除亦可與聚合反應並行進行，但較佳為在進行聚合之前，預先去除大部分溶劑。作為其去除方法，可採用與配向膜之形成方法中作為乾燥方法而例示者相同之方法。其中，較佳為自然乾燥或加熱乾燥，進行自然乾燥或加熱乾燥時之溫度較佳為0℃~250℃之範圍，更佳為50℃~220℃之範圍，進而較佳為80℃~170℃之範圍。加熱時間較佳為10秒鐘~60分鐘，更佳為30秒鐘~30分鐘。若加熱溫度及加熱時間為上述範圍內，則作為基材，可使用耐熱性不太充分者。
    將化合物(A)等進行聚合而使未聚合膜進行硬化後，剝離基材，由此可獲得將配向膜與本光學膜積層而成之膜(積層膜)。進而，剝離配向膜，可獲得單層之本光學膜。又，亦可預先將其他基材(膜或板)貼合於該積層膜後，剝離積層於本光學膜之基材或配向膜，由此進行轉印。 3.偏光板
    本光學膜係例如可使用於偏光板製造。該偏光板係包含至少一個上述本光學膜(包括本光學膜為相位差膜之情形)者。
    作為該偏光板，如圖1(a)~圖1(e)所示，可列舉(1)將本光學膜1與偏光膜層2直接積層而成之偏光板4a(圖1(a))；(2)本光學膜1與偏光膜層2介隔接著劑層3貼合而成之偏光板4b(圖1(b))；(3)將本光學膜1與本光學膜1'進行積層，進而將本發明之本光學膜1'與偏光膜層2積層而成之偏光板4c(圖1(c))；(4)將本光學膜1與本光學膜1'介隔接著劑層3貼合，進而於本光學膜1'上積層偏光膜層2而成之偏光板4d(圖1(d))；及，(5)將本光學膜1與本光學膜1'介隔接著劑層3貼合，進而將本光學膜1'與偏光膜層2介隔接著劑層3'貼合而成之偏光板4e(圖1(e))等。此處，所謂接著劑係指接著劑及/或黏著劑之總稱。再者，於圖1之說明中，作為光學膜，亦可僅為本光學膜，亦可為本光學膜上積層配向膜而成者，亦可為本光學膜上積層配向膜及基材而成者。
    上述偏光膜層2只要係具有偏光功能之膜即可，例如可列舉使聚乙烯醇系膜吸附碘或二色性色素後進行延伸之膜、使聚乙烯醇系膜進行延伸後吸附碘或二色性色素之膜等。
    又，偏光膜層2視需要亦可包括成為保護膜之膜。作為上述保護膜，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、降烯系聚合物等聚烯烴膜，聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚甲基丙烯酸酯膜、聚丙烯酸酯膜、纖維素酯膜、聚萘二甲酸乙二酯膜、聚碳酸酯膜、聚碸膜、聚醚碸膜、聚醚酮膜、聚苯硫醚膜及聚苯醚膜等。
    接著劑層3及接著劑層3'中所使用之接著劑較佳為透明性較高且耐熱性優異之接著劑。作為此種接著劑，例如可使用丙烯酸系接著劑、環氧系接著劑或胺基甲酸酯系接著劑等。
    又，於偏光板中，如圖1(c)~圖1(e)所示，亦可將2個以上之本發明之光學膜直接貼合，或者介隔接著劑層貼合。 4.平板顯示裝置
    於本發明之平板顯示裝置中，本光學膜(包括本光學膜為相位差膜之情形)作為平板顯示裝置之構件極為有用。例如可列舉包括將本光學膜與液晶面板貼合之液晶面板的液晶顯示裝置，或者包括將本發明之光學膜與發光層貼合之有機電致發光(以下，亦可稱作「EL(electroluminescence)」)面板的有機EL顯示裝置。作為本發明之平板顯示裝置之實施形態，對液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置進行簡單說明。 4-1.液晶顯示裝置
    作為液晶顯示裝置，例如可列舉如圖2(a)及圖2(b)所示之液晶顯示裝置等。圖2(a)所示之液晶顯示裝置10a係將本發明之偏光板4與液晶面板6介隔接著層5貼合而成者，圖2(b)所示之液晶顯示裝置10b係將本發明之偏光板4與本發明之偏光板4'介隔接著層5及接著層5'貼合於液晶面板6之兩面而成者。根據上述構成，使用未圖示之電極而對液晶面板施加電壓，由此液晶分子之配向產生變化，從而可進行白黑顯示。 4-2.有機EL顯示裝置
    作為有機EL顯示裝置，可列舉圖3所示之有機EL顯示裝置等。作為上述有機EL顯示裝置，可列舉將本發明之偏光板4與有機EL面板7介隔接著層5貼合而成之有機EL顯示裝置11。上述有機EL面板7係包含導電性有機化合物之至少1層之層。根據上述構成，使用未圖示之電極而對有機EL面板施加電壓，由此有機EL面板所具有之發光層中所含之化合物進行發光，從而可進行白黑顯示。
    再者，於上述有機EL顯示裝置11中，偏光板4較佳為發揮作為寬頻帶圓偏光板之功能者。若係發揮作為寬頻帶圓偏光板之功能者，則可於有機EL顯示裝置11之表面防止外光之反射。 [實施例]
    以下，列舉實施例，對本發明進行更具體說明，但本發明並未限定於下述實施例，亦可於可適合上述‧下述宗旨之範圍內進行適當變更而實施，彼等均包括在本發明之技術範圍內。再者，例中之「%」及「份」只要不特別說明，就指質量%及質量份。 1.合成例
    化合物(A11-1)係依據下述流程進行合成。
    1-1.「4,6-二甲基苯并呋喃-2-羧酸之合成」
    將4,6-二甲基水楊醛146.6 g、碳酸鉀330.7 g分散至N,N'-二甲基乙醯胺700 mL中。將所獲得之分散液加溫至80℃後，以30分鐘滴下溴乙酸第三丁酯190.5 g。將滴下後之混合液，在130℃下反應2小時。將反應液冷卻至室溫為止後，添加甲基異丁基酮600 mL，使用純水1200 mL進行水洗。進而，將有機層利用1000 mL之純水水洗2次，回收有機層。利用無水硫酸鈉進行脫水後，利用蒸發器餾去溶劑。將殘渣溶解於乙酸240 g，添加氫溴酸水溶液72 g，在40℃下攪拌1小時。放冷至室溫為止後，過濾取得添加1 N(1 mol/L)-鹽酸150 g所析出之白色粉末。將所獲得之白色粉末，進而利用1 N-鹽酸洗淨後，進行真空乾燥，由此獲得作為黃色粉末之4,6-二甲基苯并呋喃-2-羧酸81.7 g。產率係以4,6-二甲基水楊醛基準計為44%。 1-2.「化合物(11-a)之合成」
    將4,6-二甲基苯并呋喃-2-羧酸80 g、2,5-二甲氧基苯胺96.6 g及氯仿400 g進行混合。將所獲得之懸浮液利用冰浴進行冷卻後，以4小時添加1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽88.7 g與氯仿300 g之混合液，在室溫下反應48小時。將所獲得之混合液進行濃縮，添加1 N-鹽酸、水-甲醇之混合溶液(水2體積份、甲醇1體積份)而使其晶析。過濾取得所獲得之沈澱物，添加水-甲醇之混合溶液(水2體積份、甲醇1體積份)。過濾取得所析出之淡黃色沈澱，利用水-甲醇之混合溶液(水2體積份、甲醇1體積份)洗淨，進行真空乾燥，獲得作為淡黃色粉末之化合物(11-a)124.2 g。產率係以4,6-二甲基苯并呋喃-2-羧酸基準計為91%。 1-3.「化合物(11-b)之合成」
    將化合物(11-a)123 g、2,4-雙(4-甲氧基苯基)-1,3-二硫雜-2,4-二磷雜環丁烷-2,4-二硫醚(勞森試劑(Lawesson's Reagent))9.2 g及甲苯1200 g進行混合。將所獲得之混合液升溫至110℃為止後，在相同溫度下反應8小時。冷卻至室溫為止後，使用1 N-氫氧化鈉水溶液洗淨。回收有機層，添加正庚烷800 mL。過濾取得所析出之黃色沈澱物，利用正庚烷洗淨，進行真空乾燥，由此獲得作為鮮黃色粉末之化合物(11-b)109.2 g。產率係以化合物(11-a)基準計為85%。 1-4.「化合物(11-c)之合成」
    將化合物(11-b)60 g、氫氧化鉀53.8 g及水1000 g進行混合。將所獲得之混合液，在冰冷下進行攪拌。接著，添加鐵氰化鉀133 g、甲醇51 g，進行反應。進而，在室溫下反應36小時，過濾取得所析出之黃色沈澱物。將已過濾取得之沈澱利用正庚烷-甲苯之混合溶劑(正庚烷3體積份、甲苯1體積份)洗淨，並將所獲得之黃色粉末進行真空乾燥，獲得作為黃色固體之化合物(11-c)51.3 g。產率係以化合物(11-b)基準計為86%。 1-5.「化合物(11-d)之合成」
    將化合物(11-c)40 g及氯化吡啶鎓400 g(10倍質量)進行混合，並將所獲得之混合物升溫至180℃，在相同溫度下反應3小時。將所獲得之混合液添加至冰中，過濾取得所析出之沈澱物。利用水進行懸浮水洗後，利用甲苯洗淨，進行真空乾燥，獲得以化合物(11-d)為主成分之黃色固體36.6 g。產率係以化合物(11-c)基準計為99%。 1-6.「化合物(R-1a)之合成」
    化合物(R-1a)係參考日本專利特開2010-31223號公報之段落0244進行合成。 1-7.「化合物(A11-1)之合成」
    將化合物(11-d)35 g、化合物(R-1a)98.8 g、二甲基胺基吡啶1.37 g及甲苯700 mL進行混合。於所獲得之混合液中，在冰冷下添加N,N'-二環己基碳二醯亞胺55.6 g。將所獲得之反應溶液，在室溫下徹夜進行反應，使用預塗有矽膠之過濾介質進行過濾後，進行減壓濃縮。殘渣中添加甲醇而使其結晶化。過濾取得結晶，並再溶解於氯仿後，添加2.3 g之活性碳，在室溫下攪拌一小時。過濾溶液而將過濾液利用蒸發器減壓濃縮至體積成為1/3為止後，一面攪拌，一面添加甲醇，過濾取得所析出之白色沈澱物，利用庚烷洗淨，進行真空乾燥，獲得作為白色粉末之化合物(A11-1)74.5 g。產率係以化合物(11-d)基準計為60%。 1-8.「化合物(ix-1)之合成」
    化合物(ix-1)係利用日本專利特開2010-31223號公報所揭示之方法進行合成。 2.組合物之製備
    將表2所示之各成分進行混合，將所獲得之溶液在80℃下攪拌1小時後，冷卻至室溫為止，從而製備組合物。
    於表2中，光聚合起始劑係使用Irg369(Irgacure 369(BASF日本公司製造))，調平劑係使用BYK361N(BYK-Chemie Japan製造)，溶劑係使用環戊酮。 3.組合物之熱行為觀察 (實施例1及2、比較例1及2)
    於玻璃基板上塗敷聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型，和光純藥工業股份有限公司製造)之2重量%水溶液，進行加熱乾燥後，獲得厚度89 nm之膜。接著，對表面實施摩擦處理，於實施有摩擦處理之面上，利用旋轉塗佈法塗敷表2之組合物1~4之塗敷液(混合溶液)。將經塗敷之基板，使用附帶熱載台之偏光顯微鏡(熱載台：LTS350、Linkam公司製造，偏光顯微鏡：BX-51、Olympus公司製造)，於升溫時，一面以升溫速度30℃/min進行加熱，一面觀察組合物之行為。將結果示於表3。
    4-1.光學膜之製造例 (實施例3~4、比較例3~4)
    於玻璃基板上塗敷聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型，和光純藥工業股份有限公司製造)之2重量%水溶液，進行加熱乾燥後，獲得厚度89 nm之膜。接著，對表面實施摩擦處理，於實施有摩擦處理之面上，利用旋轉塗佈法塗敷表2之組合物1~4之塗敷液(混合溶液)，並在表4所揭示之溫度(Tc)下乾燥1分鐘。在表4所揭示之溫度(Td)下放置1分鐘後，照射累積光量2400 mJ/cm2之紫外線而製作膜。 4-2.表面觀察
    將膜之表面狀態，利用偏光顯微鏡以400倍之倍率進行觀察。若呈現單疇，則為￮，若產生缺陷，則為×。將結果示於表4。
    5.光學特性之測定
    將實施例3及4中製作之膜之相位差值，利用測定機(KOBRA-WR，王子計測機器公司製造)進行測定。對玻璃基板、配向膜及包含膜之積層體進行了相位差值(nm)之測定，但玻璃基板及配向膜不具有雙折射性(關於配向膜及玻璃基板，Re(447)=Re(547)=Re(628)=0)，因此可將所測定之相位差值設為膜之相位差值。相位差值Re(λ)係於波長(λ)451 nm、549 nm及628 nm中進行測定。將結果示於表5。
    使用本組合物(組合物1及組合物2)之實施例之光學膜係充分抑制結晶化，因此其係具有良好之成膜性者，且亦發現形成可進行成膜之單疇之溫度較低之傾向。 [產業上之可利用性]
    本發明係對於液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等中所使用之光學膜之製造極為有用，且產業上之價值較高者。
    1‧‧‧本發明之光學膜
    1'‧‧‧本發明之光學膜
    2‧‧‧偏光膜層
    2'‧‧‧偏光膜層
    3‧‧‧接著劑層
    3'‧‧‧接著劑層
    4‧‧‧本發明之偏光板
    4'‧‧‧本發明之偏光板
    4a‧‧‧本發明之偏光板
    4b‧‧‧本發明之偏光板
    4c‧‧‧本發明之偏光板
    4d‧‧‧本發明之偏光板
    4e‧‧‧本發明之偏光板
    5‧‧‧接著層
    5'‧‧‧接著層
    6‧‧‧液晶面板
    7‧‧‧有機EL面板
    10a‧‧‧液晶顯示裝置
    10b‧‧‧液晶顯示裝置
    11‧‧‧有機EL顯示裝置
    12‧‧‧本發明之光學膜
    圖1(a)~(e)係表示本發明之偏光板之一例的剖面模式圖。
    圖2(a)~(b)係表示本發明之液晶顯示裝置之一例的剖面模式圖。
    圖3係表示本發明之有機EL顯示裝置之一例的剖面模式圖。
    权利要求:
    Claims (7)
    [1] 一種組合物，其包含以下之(A)、(B)及(C)：(A)以式(A)表示之化合物： [於式(A)中，X1表示氧原子、硫原子或-NR1-；R1表示氫原子或碳數1~4之烷基；Y1表示亦可具有取代基之碳數6~12之一價芳香族烴基、或亦可具有取代基之碳數3~12之一價芳香族雜環式基；Q3及Q4分別獨立地表示氫原子、亦可具有取代基之碳數1~20之一價脂肪族烴基、碳數3~20之脂環式烴基、亦可具有取代基之碳數6~20之一價芳香族烴基、鹵素原子、氰基、硝基、-NR2R3或-SR2，或者Q3及Q4亦可相互鍵結而與該等分別鍵結之碳原子一起形成芳香環或芳香族雜環；R2及R3分別獨立地表示氫原子或碳數1~6之烷基；D1及D2分別獨立地表示單鍵、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR4R5-、-CR4R5-CR6R7-、-O-CR4R5-、-CR4R5-O-CR6R7-、-CO-O-CR4R5-、-O-CO-CR4R5-、-CR4R5-O-CO-CR6R7-、-CR4R5-CO-O-CR6R7-或-NR4-CR5R6-或-CO-NR4-；R4、R5、R6及R7分別獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基；G1及G2分別獨立地表示碳數5~8之二價脂環式烴基，構成該脂環式烴基之亞甲基亦可置換為氧原子、硫原子或-NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可置換為三級氮原子；L1及L2分別獨立地表示一價有機基，L1及L2中之至少一者為具有聚合性基之有機基]；(B)具有巰基之化合物；及(C)光聚合起始劑。
    [2] 如請求項1之組合物，其中上述(B)為具有2個以上之巰基之化合物。
    [3] 如請求項1或2之組合物，其中上述(A)係上述式(A)之L1為以式(A1)表示之基，且L2為以式(A2)表示之基的化合物：P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1) P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)[於式(A1)及式(A2)中，B1、B2、E1及E2分別獨立地表示-CR4'R5'-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR1'-、-O-CH2-、-S-CH2-或單鍵；A1及A2分別獨立地表示碳數5~8之二價脂環式烴基或碳數6~18之二價芳香族烴基，構成該脂環式烴基之亞甲基亦可置換為氧原子、硫原子或-NH-，構成該脂環式烴基之次甲基亦可置換為三級氮原子；k及l分別獨立地表示0~3之整數；於k為2以上之整數之情形時，複數個B1相互可相同亦可不同，複數個A1相互可相同亦可不同；於l為2以上之整數之情形時，複數個B2相互可相同亦可不同，複數個A2相互可相同亦可不同；F1及F2表示碳數1~12之二價脂肪族烴基；P1表示聚合性基；P2表示氫原子或聚合性基；R1'表示氫原子或碳數1~4之烷基；R4'及R5'分別獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基]。
    [4] 一種光學膜，其係使如請求項1至3中任一項之組合物中所含的以式(A)表示之化合物進行聚合而形成者。
    [5] 如請求項4之光學膜，其具有相位差性。
    [6] 一種偏光板，其包含如請求項4或5之光學膜。
    [7] 一種平板顯示裝置，其包括如請求項4或5之光學膜。
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    法律状态:
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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